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Volume 4,Issue 7

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20 February 2026

多晶硅设备管道腐蚀防护技术实践探索

月龙 杨1
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1 青海亚洲硅业半导体有限公司, 中国
ETQM 2026 , 4(2), 49–51; https://doi.org/10.61369/ETQM.2026020020
© 2026 by the Author(s). Licensee Art and Technology, USA. This article is an open access article distributed under the terms and conditions of the Creative Commons Attribution -Noncommercial 4.0 International License (CC BY-NC 4.0) ( https://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0/ )
Abstract

多晶硅作为光伏、半导体等高端产业的核心原材料,其生产过程涉及氯硅烷、盐酸、氢气等多种腐蚀性介质,设备管道腐蚀问题直接影响生产连续性、产品质量及运营安全。本文基于多晶硅生产工艺特点,深入分析设备管道腐蚀的主要类型及成因,重点探讨材料选型优化、涂层防护、阴极保护、工艺优化及腐蚀监测等核心防护技术的实践应用效果,结合生产场景提出防护技术体系的优化方向,为多晶硅行业提升设备管道腐蚀防护水平、降低运维成本提供实践参考。

Keywords
多晶硅
设备管道
腐蚀防护
材料选型
涂层防护
腐蚀监测
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